| 耐薬品性と均熱範囲を確保した画期的な加熱装置です。電子部品の焼成に最適です。 本装置は、特に銅配線や低誘導率層絶縁膜に適した500℃以下において、均熱範囲を十分にもった装置です。又、特殊ヒーターにより内部試料から発生したガスに腐食されにくい構造になっています。 |
| ・ | 300mmφウエハー370x470ガラス基板対応。 |
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| ・ | 500℃以下の温度領域において良好な均熱範囲を実現。 | ||
| ・ | 特殊ヒーターの使用により内部発生のガスによる腐食が減少します。 | ||
| ・ | 特殊ヒーターの交換が容易。 | ||
| ・ | ヒーターより発生するガスによる試料の汚染がありません。 | ||
| 炉内寸法:680mmW×600mmD×560mmH |
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| 真空度:6.65Pa(1.3×10-3Pa) | |||
| 最高温度:800℃ | |||
| 昇温速度:10℃/min 降温速度:4℃/min | |||
| 均熱範囲:300mm ウエハーにて±2℃以内(at 450℃) | |||
| 雰囲気ガス:N2/Ar | |||
| ・ | 真空ポンプ保護トラップ |
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| ・ | 内部雰囲気モニター用酸素計(減圧対応型) | ||
排ガス処理装置等、その他別途ご相談にて |
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